iPhone 18 Pro设计巨变曝光：屏下面容ID+左上角单打孔，网友直呼“丑”！

近日，iPhone 18 Pro与iPhone 18 Pro Max的外观设计图在网络曝光，迅速登上热搜。据悉，新机型将迎来近年来最大设计变革：取消药丸形挖孔，改为屏幕左上角单打孔设计。这一变化源于苹果将面容ID组件成功隐藏于屏幕下方，标志着苹果向“真全面屏”目标迈出关键一步。

然而，这一设计引发了网友广泛讨论。不少用户认为，将前置摄像头单独置于左上角“颜值堪忧”，并质疑为何不采用居中打孔方案。根据现有信息，iPhone 18 Pro系列背部设计将延续前代的横向矩阵模组，镜头保持三角形排列，屏幕尺寸预计保持不变（Pro为6.3英寸，Pro Max为6.9英寸）。此外，苹果或将通过升级玻璃工艺，减少中框与玻璃背板的色差，提升整机的一体化观感。

从刘海屏到灵动岛，再到如今的屏下元件技术，苹果始终致力于将前置传感器全面隐藏。按照规划，iPhone最终将实现前摄完全屏下，达成无开孔的真全面屏形态。iPhone 18 Pro系列预计将于2025年秋季正式发布，届时是否将带来更多视觉与体验革新，值得持续关注。